Forno de deposição de vapor físico a vácuo

Tipo de pagamento:T/T

Incoterm:FOB,CFR,CIF,EXW

Quantidade de pedido mínimo:1 Set/Sets

transporte:Ocean

porta:Dalian

Atributos do produto
Capacidade de fornecimento e informaçõ...
Embalagem & Entrega

Atributos do produto

marca: Gtvac

Capacidade de fornecimento e informaçõ...

Pacote: caixa de madeira

transporte: Ocean

Lugar de origem: China

Certificados : iso9001

Código HS: 8514200090

porta: Dalian

Tipo de pagamento: T/T

Incoterm: FOB,CFR,CIF,EXW

Embalagem & Entrega

Unidades de venda:

Set/Sets

Tipo de pacote:

caixa de madeira

Exemplo de imagem:

Introdução

O forno de deposição física de vapor (PVD) a vácuo é um equipamento de alto desempenho projetado especificamente para depositar filmes finos e revestimentos em uma ampla variedade de materiais. Usando a tecnologia avançada de vácuo combinada com processos físicos de deposição de vapor, como evaporação, pulverização e deposição de arco, esse forno garante adesão superior de filmes, uniformidade e pureza.

Ideal para indústrias como fabricação de semicondutores, revestimento de ferramentas e matriz, revestimentos ópticos, peças automotivas e componentes aeroespaciais, o forno PVD a vácuo oferece uma solução econômica e de alta qualidade para as demandas modernas de engenharia de superfície.

Principais recursos

1. Sistema de vácuo avançado

Atinge os altos níveis de vácuo até 1 × 10⁻⁴ PA, garantindo contaminação mínima e pureza aprimorada do filme.

Equipado com bombas de vácuo de alta eficiência, como bombas turbo-moleculares, bombas de difusão e bombas secas.

Ambiente de vácuo estável crítico para alcançar revestimentos de alta qualidade e sem defeitos.

✔ Benefício: adesão superior do revestimento e espessura consistente do filme.

2. Técnicas de deposição versátil

Suporta vários métodos de PVD, incluindo:

Evaporação térmica

Evaporação do feixe de elétrons (feixe eletrônico)

Magnetron Sputtering (DC e RF)

Evaporação de arco

Os recursos flexíveis de processo permitem a deposição de metais, cerâmica, ligas e materiais compostos.

✔ Ideal para aplicações que variam de revestimentos decorativos ultrafinos a revestimentos funcionais duros e resistentes a desgaste.

3. Controle preciso de temperatura e processo

Os sistemas integrados de aquecimento multi-zona fornecem aquecimento uniforme do substrato até 1000 ° C.

O controle preciso da temperatura garante condições ideais de deposição para vários materiais.

Monitoramento em tempo real dos níveis de vácuo, taxas de fluxo de gás e taxas de deposição através de sistemas de controle de PLC + HMI.

✔ Resultado: Lote de desempenho de revestimento confiável e reproduzível após o lote.

4. Alta uniformidade de deposição

Os projetos de câmara com dinâmica otimizada de fluxo de gás e configurações avançadas de alvo garantem mesmo a espessura do filme em todas as superfícies do substrato.

Adequado para geometrias complexas de revestimento, incluindo componentes cilíndricos, planos e contornados.

✔ Garante excelente acabamento superficial e propriedades mecânicas consistentes.

5. Design de câmara personalizável

Tamanhos de câmara padrão e personalizados disponíveis para atender diferentes volumes de produção.

Opções para processamento em lote, sistemas contínuos embutidos e revestimento de PVD roll-to-roll para substratos flexíveis.

Os caminhos de atualização modular permitem que os usuários adicionem facilmente novas fontes ou tecnologias conforme as necessidades evoluem.

Aplicações

O forno PVD a vácuo é amplamente usado em muitos setores:

Indústria de semicondutores: deposição de camadas de barreira, camadas de metalização e revestimentos funcionais.

Revestimentos de ferramentas: revestimentos rígidos como estanho, tialn e CRN para melhorar a vida e o desempenho da ferramenta de corte.

Revestimentos ópticos: revestimentos anti-reflexivos, revestimentos de espelho e filmes decorativos.

Dispositivos médicos: revestimentos biocompatíveis para implantes e instrumentos cirúrgicos.

Componentes automotivos: revestimentos estéticos e resistentes ao desgaste para peças do motor e acabamento interno/exterior.

Vantagens do forno de deposição de vapor físico a vácuo

Revestimentos de alta pureza com excelente força de adesão.

Compatibilidade de material amplo, metais de suporte, cerâmica e compósitos.

Produção escalável de pequenos lotes de P&D à produção industrial em massa.

Menor custo operacional em comparação com os métodos de deposição de vapor químico (DCV).

Processo ecológico com produção mínima de resíduos.

Controle e monitoramento inteligentes

Os sistemas PLC totalmente automatizados controlam todo o ciclo de deposição.

Os recursos de monitoramento e ajuste de parâmetros em tempo real garantem otimização do processo.

O acesso remoto e os diagnósticos permitem solução rápida de problemas e tempo de inatividade mínimo.

O registro de dados e o gerenciamento de receitas permitem a qualidade de produção em lote a lote.

✔ Manufatura inteligente pronta para a integração da indústria 4.0.

Por que escolher nosso forno em PVD a vácuo?

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