Equipamento de revestimento a vácuo de pulverização de magnetron

Tipo de pagamento:T/T

Incoterm:FOB,CFR,CIF,EXW

Quantidade de pedido mínimo:1 Set/Sets

transporte:Ocean

porta:Dalian

Atributos do produto
Capacidade de fornecimento e informaçõ...
Embalagem & Entrega

Atributos do produto

Modelo: GD-X200-8

marca: Gtvac

Capacidade de fornecimento e informaçõ...

Pacote: caixa de madeira

transporte: Ocean

Lugar de origem: China

Certificados : iso9001

Código HS: 8514200090

porta: Dalian

Tipo de pagamento: T/T

Incoterm: FOB,CFR,CIF,EXW

Embalagem & Entrega

Unidades de venda:

Set/Sets

Tipo de pacote:

caixa de madeira

Exemplo de imagem:

Com base no princípio da PVD (deposição física de vapor), a tecnologia de pulverização de magnetron a vácuo é usada para depositar um ou mais materiais de nano-escala no substrato. A espessura do filme pode ser finamente controlada, e a camada de filme é uniforme e consistente, dando ao substrato novas funções. O processo de produção é verde e ecológico e é amplamente utilizado na fabricação de filmes ópticos, filmes Low-E, filmes de elementos de bateria, filmes fotovoltaicos, filmes ITO e tecnologia de penetração de material magnético permanente. Os tipos de equipamentos são divididos em duas categorias: máquinas de unidade única e linhas contínuas. A linha contínua adota uma estrutura modular e pode ser organizada de acordo com diferentes requisitos de processo. O cátodo pode ser equipado com um alvo rotativo ou um alvo plano; O revestimento reativo também pode ser alcançado de acordo com os requisitos do processo.

Principais recursos

· Câmara de alto vácuo-níveis de vácuo de até 10⁻⁴-10⁻⁶ PA para ambientes de revestimento ultra limpo.

· Tecnologia de pulverização de magnetron - eficiência aprimorada de deposição e adesão superior do revestimento.

· Capacidade multi-alvo-suporta vários materiais para revestimentos compostos ou em camadas.

· Controle preciso do processo-interface PLC + HMI com monitoramento em tempo real e receitas programáveis.

· Deposição de filme uniforme-Sistemas de distância e rotação de alvo a substrato otimizados.

Vantagens técnicas

· Produz revestimentos com alta densidade, acabamento superficial liso e excelente resistência à ligação.

· Adequado para metais, cerâmica e revestimentos dielétricos.

· Capaz de deposição de área grande com espessura uniforme.

· Aquecimento reduzido do substrato para materiais sensíveis à temperatura.

O sistema opera bombardeando um material alvo com íons em um plasma controlado, fazendo com que os átomos sejam ejetados e depositados na superfície da peça de trabalho. O ambiente de alto vácuo garante revestimentos limpos e sem defeitos, com excelente uniformidade e repetibilidade, enquanto a tecnologia magnetron melhora as taxas de deposição e a eficiência energética.

Aplicações

· Revestimentos ópticos-filtros anti-reflexivos, espelhados e de interferência.

· Eletrônica - camadas condutivas, filmes semicondutores e revestimentos protetores.

· Energia solar - camadas transparentes de óxido condutor (TCO) para painéis solares.

· Acabamentos decorativos-revestimentos coloridos resistentes a desgaste e resistentes à corrosão.

· Ferramentas e engenharia - revestimentos rígidos para ferramentas de corte, moldes e peças da máquina.

O equipamento de revestimento a vácuo da pulverização de magnetron oferece precisão, flexibilidade e alta eficiência de produção, tornando-a a escolha preferida para os fabricantes que buscam soluções de revestimento de filme fino confiáveis e escaláveis.